ここ数年、審議されてきたチリの知的財産法改正案が国民議会を通過しました。
今回の改正は、知的財産保護の強化、迅速な審査、ユーザーフレンドリーな手続きの構築等を目的とし、改正点は商標、特許、意匠に関する事項等、多岐に渡ります。
特許に関して、最も重要な改正点として、仮出願制度の導入が挙げられます。
これにより、米国と同様に、仮出願の出願日から12ヶ月以内に通常の出願をした場合、一定の要件下、仮出願の出願日の利益を享受することができます。
尚、ラテン・アメリカで仮出願制度を導入したのは、チリが初めてです。

改正知的財産法は、施行規則の官報掲載後に発効します。